集成电路布图设计专有权判定之必要布图配置解析

总第161期 樊磊 北京集创北方科技股份有限公司知识产权与标准部总监发表,[专利]文章

集成电路布图设计专有权作为工业版权的一种[1],不同于专利权和版权,具有其独特的特点。在专有权判定过程中,应考虑布图设计对应电子功能,进行前置功能与必要布图配置判断,并与在后的布图设计独创性判断相结合。

本文对集成电路、集成电路布图设计以及集成电路专用权的保护客体进行阐述,并介绍了集成电路电子功能的性质,提出了必要布图配置的规则,并列出必要布图配置与必要技术特征的区别。此外,对集成电路布图设计的独创性进行研究,并与著作权法的独创性、专利法的创造性对比,结合案例分析必要布图配置规则的适用,以及前置功能与必要布图配置与在后的布图设计独创性判断结合的路径。

关于集成电路及布图设计定义的理解

(一)集成电路布图设计专有权的客体
《集成电路布图设计保护条例》(以下简称《条例》)[2]中关于集成电路的定义,限定了基片材料、涉及元件和互连线路,并涉及特定电子功能。在判定集成电路布图设计时,首先应满足集成电路的规定。

首先,该定义限定了布图设计所属领域为集成电路;若对所属领域不作限定,则可能将其它布图设计引入集成电路布图设计的范围。如电子信息产业普遍使用的PCB布图的设计过程中也涉及三维配置,但PCB布图设计不在目前《条例》的保护范围内。
其次,该定义限定了集成电路布图设计专有权的客体为三维配置。从其外在表现来看,一般呈现为几何图形的形状、大小,以及其三维空间的位置关系(可对应三维坐标)与互连关系。几何图形在三维空间的相对位置关系对应布局,几何图形间的连线对应布线。几何图形、三维空间的叠层、连线具有特定的电学功能和性能,会受到工艺、材料的限制。究其本质而言,三维配置实质上是一组特定数据或信息集合,其中包含工艺信息、材料信息、元件及其互连信息、位置信息、结构信息,并隐含功能和性能信息。该客体是抽象的客体,可认为是功能性作品(functional works)[3]。

最后,该定义涵盖了集成电路布图设计内容、创作目的、创作过程。从内容上,指出了集成电路布图设计所包含的要素。从创作目的上,该定义指出了该三维配置是为制造集成电路而准备的。从创作过程上,该定义涵盖了集成电路布图设计的创作过程。

(二)集成电路布图设计的工业实用性与复制行为
作为功能性作品,集成电路布图设计具有工业实用性。虽然这种工业实用性目前没有在《条例》中进行明确定义,但上述定义涵盖了集成电路布图设计创作目的,给出了工业实用性的指向。参看工业品外观设计的工业实用性,可以看到《专利法》[4]中对外观设计的定义,对于工业实用性给出了要求。集成电路布图设计的工业实用性,最基本的体现是布图设计能够被复制。
《条例》规定的复制包含针对布图设计层面的行为,以及根据布图设计制造集成电路的行为。《条例》将复制限定于重复制作,从设计与制造角度进行规范,与布图设计的载体尚不能对应。目前,涉及集成电路布图设计的载体包括纸件、电子件、集成电路样品。对于通过纸件、电子件复制布图设计,则体现为复印、印刷、拷贝等方式制作文件副本;对于通过集成电路复制布图设计,则体现为将布图设计用于晶圆制造形成光掩膜或光罩(mask),进而加工芯片。不同的复制行为,实质上是三维配置信息及其载体的转换,表现为布图设计本身的重复制作,以及布图设计同类或不同载体的转换。

笔者建议,可将《条例》所述的复制,调整为重复制作布图设计或者含有该布图设计的载体的行为,这样可以涵盖《条例》第十六条所述的复制件,也为不同载体间的转换提供了依据,有助于解决现行《条例》下确认集成电路布图专有权关于布图设计载体准用性的争议,并为以后可能出现的新型载体形式预留适用空间。


(三)功能的性质
从集成电路发展的历程来看,集成电路布图设计也是为集成电路的设计或制造而服务的,必然对应某种功能实现,这也符合集成电路布图设计作为功能性作品之一的定位。在集成电路设计专有权的判定过程中,应对集成电路执行的电子功能予以充分考量。《条例》所述的电子功能,应具备有效性、层次性、独立性、关联性、完备性、测度性等性质。

必要布图配置与独创性

(一)必要布图配置
结合《专利法》及实施细则[5]、《专利审查指南》[6]以及《条例》,可以导出必要布图配置的规则,其内容可以表述为:受保护的布图设计的最小设计单元或其组合,应当记载执行电子功能的必要布图配置。

1.最小的设计单元或其组合
设计单元的划界与其执行的电子功能密切相关,具体划界可结合功能的层次性与独立性。最小的设计单元应具有较为明显的独立性,具有某种相对独立的电子功能,且具有明显的设计独立性[7]。

2.必要布图配置
必要布图配置是指布图设计为实现其电子功能所不可缺少的三维配置。判断某一布图配置是否为必要布图配置,应当从所要执行的电子功能出发并考虑布图设计的整体内容与设计单元的划界,不应简单地将布图设计中的共用配置直接认定为必要布图配置。判定的主体同样为布图设计创作者和集成电路制造者。

(二)独创性
具有独创性的布图设计首先应是创作者自己的智力劳动成果。此外,在实际设计中,可能存在常规设计、非常规设计,若以布图设计中仅包含单个最小设计单元为例,则当该最小设计单元为非公认的常规设计时,其具备独创性。

若以存在两个最小设计单元为例,构成了前述最小设计单元组合的情况,依照常规设计与非常规设计的组合,至少存在以下三种方式:

(1)非常规设计+常规设计;
(2)非常规设计+非常规设计;
(3)常规设计+常规设计。

对于前两种情况,应至少存在一个非公认的常规设计,满足《条例》第四条第一款的规定;对于第三种情况,则需判定该组合作为整体是否满足第四条第一款规定,即常规设计组合作为整体是否为非公认的常规设计,也即独创性审查的整体判断原则[8]]。

对于存在多个最小设计单元的情况,可以参照两个最小设计单元的情况,分为均为常规则设计,或至少包含一个非常规设计两大类。同样,对于前者,应满足《条例》第四条第一款的规定;对于后者,需判定该组合作为整体是否满足第四条第一款规定。

(三)必要布图配置与必要技术特征
专利法意义上的必要技术特征,是指发明或者实用新型为解决其技术问题所不可缺少的技术特征,其与本文提出的必要布图配置相比存在以下差异:

首先,二者针对对象不同。必要布图配置针对布图设计的配置信息,而必要技术特征针对技术特征,可以体现利用了自然规律的技术手段。
其次,二者创设目的不同。必要布图配置是布图设计为实现其所声称的电子功能,而必要技术特征是为解决发明或者实用新型所声称的技术问题。
再次,二者对保护范围影响不同。必要布图配置包含在最小设计单元或其组合之中,不同最小设计单元的位阶是相同的;而必要技术特征仅包含在独立权利要求中,影响最宽的专利保护范围。

(四)独创性与创造性
著作权法意义上的独创性,主要是指作品来自创作这一智力活动,由作者独立完成,体现作者一定的个性内容[9]。《条例》规定的独创性,也包含这层含义,即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果。此外,《条例》规定的独创性对创造性高度有一定要求,即在创作者创作时,该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。

上述创造性高度低于专利法意义上的创造性高度。根据《专利审查指南》第二部分第四章的规定,专利创造性要求专利技术方案相对于现有技术非显而易见,与现有技术相比能够产生有益的技术效果。在专利创造性判断“三步法”的适用过程中,非显而易见性的判断对应于是否存在技术启示的判断。不存在技术启示的情形包括:所述区别特征不属于公知常识;区别特征未在另一份对比文件中披露;区别特征为另一份对比文件中披露的相关技术手段,该技术手段在该对比文件中所起的作用与该区别特征在要求保护的发明中为解决该重新确定的技术问题所起的作用不同,甚至给出相反的技术教导等。

布图设计受工艺制程、材料、电气规则、物理规则、工业实用性等诸多因素限制,可选择的创造性路径有限,这也是制约其创造性高度的重要原因。在创造性高度的判断方面,仅对其非公知性作出要求,即非公认的常规设计,具体应包括:不属于在申请日或首次商业利用日之前(以较前日期为准)公众能够获知的布图设计;也不属于在创作布图设计时布图设计创作者和集成电路制造者能够从布图设计领域的教科书、技术词典、技术手册、通用标准、通用模块等资料中获取的设计,以及根据所执行的电子功能和基本的设计原理可以直接且毫无疑义地得出的设计。其中,创作布图设计时的终止日期可理解为创作完成日,不晚于申请日或首次商业利用日(以较前日期为准)。

案例简析


(一)第JC0012号集成电路布图设计撤销案
以国家知识产权局原专利复审委员会第JC0012号案件为例。按照该案审查决定[10]所述,专有权人意见陈述认为,该布图设计独创性部分体现在三个模块。先不论这三个模块是否具有独创性,可知该布图设计至少对应三个设计单元:补偿电路单元,ESD单元、修整单元。一般来说,这三个设计单元实现的功能复合度较低,对应比较基础且相对独立的功能,可作为最小设计单元。

以布图设计创作者和集成电路制造者的角度,对于补偿电路单元,布图设计为实现其电子功能(线电压补偿)所不可缺少的三维配置是CONT层显示信息。由于缺少这一必要布图配置,从而无法执行电子功能。对于ESD单元,CONT层显示信息不是必要布图配置,可由其它配置信息得知ESD功能如何实现。对于修整单元,该单元对应功能不涉及CONT层,CONT层显示信息不是必要布图配置。

该布图设计中的共用配置包含CONT层,但CONT层显示信息在不同的最小设计单元中,不一定均为必要布图配置。

(二)昂宝诉智浦芯联案
以江苏省高级人民法院对该案的二审判决为例,根据民事判决书[11]所述,昂宝公司提交的布图设计图样中,仅有两层金属层,也未见其申请的保密图层,因此其缺少《条例》规定的集成电路所述有源元件,从布图设计创作者和集成电路制造者的角度,也无法推知具体的有源或无源元件位置及其互联关系等配置信息,因而缺少实现其电子功能所不可缺少的三维配置,不满足必要布图配置规则。

(三)南京日新集成电路布图设计专有权权属纠纷案
南京日新集成电路布图设计专有权权属纠纷案是与国内首例集成电路布图侵权纠纷行政裁决案关联的案件。该案中,对于权利归属的判定,存在是否将对集成电路布图设计作出实质性贡献局限于参与布图设计环节的创作争议。[12]

根据《条例》第七条的规定,集成电路布图设计专有权是建立在受保护的布图设计基础上的,因此应明确受保护的布图设计及其载体,并依此审查权属纠纷双方对此布图设计所作的贡献。结合必要布图配置规则,可以转换为对于必要布图配置和非常规设计的实质性贡献判定,从而将实质性贡献与动态设计过程的匹配和界定转换为实质性贡献与相对稳定的静态设计结果的匹配和界定,同时兼顾功能与设计的对应关系。

结论

集成电路布图设计的独创性有别于著作权法的独创性和专利法的创造性,必要布图配置也与必要技术特征有显著区别。随着集成电路设计、制造、分析等技术的发展,作为工业版权的一种,集成电路布图设计以其功能性作品获得专门的法律保护,在今天看来依然是十分必要的。然而,现行《条例》也呈现出一些不适应当前集成电路布图设计专有权确权与维权需求之处。加强集成电路公共数据库的建设、完善数据公开和获取方式,进一步明确权利边界的解释、界定和判定规则,探索设立法定赔偿与惩罚性赔偿等,有助于体现《条例》保护集成电路布图设计专有权、鼓励集成电路技术的创新、促进科学技术的发展之立法本义。


参考文献:
[1] 郑成思.工业版权与工业版权法[J].法学研究,1989(01):34-38.
[2] 集成电路布图设计保护条例. 2001年4月2日公布,2001年10月1日起施行.
[3] U.S. Congress, Office of Technology Assessment.lntellectual Property Rights in an Age of Electronics and Information[R].OTA-CIT-302 (Washington, DC: U.S. Government Printing office, April 1986):page 7~8.
[4] 中华人民共和国专利法.1985年4月1日起施行,2008年修正.
[5] 中华人民共和国专利法实施细则.2001年7月1日起施行,2010年修订.
[6] 专利审查指南.2010年版,2019年修改.
[7] 沈丽.集成电路布图设计专有权撤销审查标准的适用[EB/OL].中国知识产权资讯网.http://www.iprchn.com/Index_NewsContent.aspx?NewsId=109932.访问时间:2019-11-27
[8] 集成电路布图设计审查与执法指南(试行).2019年4月发布.
[9] 冯晓青.著作权法[M].北京.法律出版社.2010年9月第1版. 
[10] 专利复审委员会.第JC0012号审查决定[EB/OL]复审和无效审理部网站.http://reexam-app.cnipa.gov.cn/reexam_out1110/searchIndex.jsp#访问时间:2019-11-27
[11] 江苏省高级人民法院(2013)苏知民终字第180号民事判决书.
[12] 曹志明,王志超.集成电路布图设计专有权保护相关问题研究——国内首例侵权纠纷行政裁决案件引发的思考[J].知识产权,2018(07):60-67. 



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