贺化出席集成电路布图设计保护制度研讨会

　　11月12日，集成电路布图设计保护制度研讨会在江苏泰州举行，国家知识产权局副局长贺化出席研讨会开幕式并讲话。
　　贺化在讲话中肯定了我国近十年来集成电路布图设计保护工作取得的成绩。他强调，要充分做好人力、物力等多方面的准备，以应对集成电路布图设计登记审查工作的大幅增长；积极探索提高集成电路布图设计审查质量的方式、方法，加强集成电路布图设计保护工作的信息化建设，不断提高布图设计登记审查工作的服务水平。
　　贺化强调，要加大宣传普及工作力度，强化相关企业的专有权意识，并从研发方向、申请策略和商业转化等方面，协助提升产业界的能力和水平，形成具有国际竞争力的知识产权；进一步健全保护政策和制度，完善相关工作体系和机制，有力保护专有权所有者的合法权益。
　　自2001年《集成电路布图设计保护条例》实施以来，经过近十年的建设和发展，已基本形成了较为完备的集成电路布图设计保护体系，集成电路布图设计登记申请量年均增长40%左右，布图设计专有权的复审工作从无到有逐渐发展起来，在保护专有权人的权益方面树立了良好的典范，集成电路布图设计专有权的商业价值已经初步显现。
　　国家知识产权局相关部门负责人和审查员、江苏省及部分地方知识产权局相关负责人、工业和信息化部软件与集成电路促进中心负责人、各级法院代表、专家学者、集成电路行业协会代表、集成电路产业企业代表和代理机构代表等150余人参加了研讨会。（匡莹）
　　（来源：国知网）
　

　（责任编辑：张菁）

 

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